|
|
Установка ЭМ-5186 предназначена для проекционного переноса изображения знаков совмещения на нижнюю сторону пластины (подложки), совмещенных со знаками совмещения, сформированными на её верхней стороне предварительно.
Установка позволяет изготавливать пластины с двухсторонней литографией на фотолитографическом оборудовании. Установка позволяет формировать знаки на прозрачных подложках.
Применяется для изготовления полупроводниковых приборов, гибридных, оптических, оптоэлектронных приборов, МЭМС и МОЭМС.
Технические характеристики
| Параметр | Значение |
|---|---|
| Размер подложек*, мм | Ø76; 100; 150; 200; 60×48 |
| Толщина подложки, мм | 0.3 ... 10.0 |
| Случайная составляющая погрешности совмещения знаков на двух сторонах подложки, мкм | 0.3 |
| Напряжение/частота сети электропитания, В/Гц | 230/50 ... 60 |
| Потребляемая мощность, не более, Вт | 300 |
| Масса установки, не более, кг | 250 |
* Уточняется при заказе